告别传统！碳化硅皮秒激光标记，开启微纳加工新时代！

在追求极致精密的今天，传统标记技术是否已无法满足您的严苛需求？当材料特性与加工精度达到瓶颈时，您是否渴望一种革命性的解决方案？现在，是时候了解碳化硅（SiC）皮秒激光标记了！

为什么是碳化硅？为什么是皮秒激光？

碳化硅，这种第三代半导体材料，以其卓越的物理和化学特性在电力电子、新能源汽车、航空航天等领域扮演着越来越重要的角色。它具备：

• 超高硬度： 莫氏硬度高达9.5，仅次于金刚石，这意味着传统方法难以对其进行精密加工。

• 耐高温： 即使在极端温度下也能保持稳定性能。

• 高导热性： 有效散热，保障设备稳定运行。

• 高击穿电场强度： 是制作高压、大功率器件的理想选择。

然而，这些优异的特性也给其加工带来了巨大挑战。传统的机械刻划、纳秒激光等技术，往往面临：

• 热损伤： 产生熔融、裂纹、微区形变，影响材料性能。

• 加工精度低： 难以实现微米甚至纳米级的精细图案。

• 效率低下： 生产周期长，成本高昂。

皮秒（picosecond）是$10^{-12}$秒，超短的脉冲宽度带来了“冷加工”的可能：

• “冷加工”效应： 激光与材料相互作用时间极短，热影响区小到可以忽略不计，有效避免了热损伤、微裂纹等问题。

• 非线性吸收： 即使是高透明材料也能被有效加工，拓宽了应用范围。

• 超高精度： 可实现微米甚至亚微米级的精细加工，满足更高要求。

• 表面质量优异： 加工后表面光滑无毛刺，无需二次处理。

碳化硅皮秒激光标记：为您带来什么？

当碳化硅遇上皮秒激光，一场关于精密标记的变革悄然发生。我们为您提供的是：

• 无与伦比的精细度： 轻松实现微米级线条、复杂图案、二维码等高分辨率标记，肉眼几乎无法分辨的细节也能清晰呈现。

• 完美的热损伤控制： 告别传统激光带来的裂纹、崩边、熔融等问题，确保碳化硅材料的原始性能不受影响。

• 高效稳定的加工能力： 提升生产效率，降低废品率，为您节省宝贵的时间和成本。

• 极强的适应性： 不仅限于平面标记，对于复杂曲面、异形结构也能精准应对。

• 永久性标记： 激光标记深度可控，耐磨损、耐腐蚀，确保标记信息长期清晰可见。

广泛应用，赋能未来

碳化硅皮秒激光标记技术正广泛应用于以下领域：

• 半导体器件： 碳化硅芯片、功率器件的序列号、Logo、二维码标记。

• 新能源汽车： 电力模块、传感器、控制单元的精密标识。

• 航空航天： 高性能部件的追溯码、防伪标记。

• 精密仪器： 医疗器械、光学元件的超精细刻印。

• 科研领域： 微纳结构制备、表面改性等前沿研究。

立即升级您的标记技术！

如果您正在为碳化硅等硬脆材料的精密加工而烦恼，如果您渴望提升产品价值和市场竞争力，那么碳化硅皮秒激光标记技术无疑是您最佳的选择！

我们拥有专业的研发团队和先进的设备，致力于为您提供定制化的解决方案。立即联系我们，让我们共同开启您的微纳加工新篇章！